Hakuto 이온 식각기 20IBE-J

협상 가능업데이트07/20

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제조업체의 성격: 생산자

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개요

상해 백동일본은 대규모양산에 적합한 하쿠토이온식각기 20IBE-J를 원조로 수입하여 어떤 재료를 사용하든 가공에 사용할수 있다.Hakuto 이온 식각기 20IBE-J 구성은 미국 KRI 20cm 코프만 이온 소스를 사용합니다. 식각 균일성: 5%, 실리콘 칩 Si 부식 속도 20 nm/min, 샘플대: 직접 냉각 (물 냉각), 0~90도 회전, 따라서 무선 주파수 각도는 임의로 조정할 수 있습니다. 식각은 필요에 따라 수직, 사면 등 가공 모양을 만들 수 있습니다.

제품 정보

Hakuto 이온 식각기 20IBE-J 제품 이점:

Hakuto 이온 식각기의 주요 장점:

건식 제조 공정의 미세 가공 장치는 박막 헤드, 반도체 소자, MR sensor 등 분야의 개발 연구 및 양산을 광범위하게 응용할 수 있다.

물리적 식각의 특성은 어떤 재료를 사용하든 가공에 사용할 수 있기 때문에 다양한 분야에서 널리 응용될 수 있습니다.

3. 미국 코프만 이온원 사용 구성

4.무선 주파수 각도는 임의로 조정할 수 있습니다.식각은 필요에 따라 수직, 사면 등 가공 모양을 만들 수 있습니다.

5.기판은 직접 냉각 장치에 장착하기 때문에 저온 환경에서 식각할 수 있다.

6. 공전자전 전송 기구를 배치하여 피식각물이 비교적 균일하고 매끄러운 표면을 얻을 수 있도록 한다.

7.기계의 설계는 자동화된 조작 절차를 사용하기 때문에 매우 우호적인 생산 과정을 사용할 수 있습니다.

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