300mm 세척 유닛(U2V/2UV)

오늘날 청정 기술은 각 분야의 제품을 생산하거나 입자 오염과 미생물 오염을 방지해야하는 기타 환경 통제에 널리 사용되었습니다.례를 들면 휴대폰전자부품을 생산하는 먼지없는 작업장의 공기정화의 주요목적은 공기중에 떠다니는 먼지알갱이를 제거하고 청결한 작업환경을 창조하여 제품의 고품질, 고정밀도, 고순도와 높은 생산량을 보장하는것이다.

전자 제품 분야에서, 전자 부품은 전자관에서 반도체 분리 부품에서 집적 회로에 이르기까지, 집적 회로의 선폭만 몇 마이크로미터에서 대략으로 증가한다0.1마이크로미터, 예를 들면 생산상의 패치, 노출, 식각, 검사 등 제조 과정 전단이기 때문에 소형화, 정밀화의 생산 환경이 필요하다.

먼지를 제거하기 전에 먼저 정전기 제거 장치에 의해 표면 정전기를 제거한 다음 특수 설계된 먼지 제거 유닛을 통해 먼지와 재료의 경계층을 깨뜨리고 먼지 제거 유닛에 의해 초음파 기류가 생성됩니다.진동, 재료 표면의 분진이 느슨해진 후 먼지 제거 단위의 진공 흡인력에 의해 흡입되어 먼지를 제거하는 작용을 한다.

비접촉식 먼지 제거 장치의 특성과 장점및 작동 방법:

1、비접촉식 구조는 재료 손상을 피한다.초음파는 공기의 점착층을 깨뜨리고 극소입자를 철저히 제거한다(1.6um 이상)의 먼지.

2. 먼지 제거 유닛에서 분출하는 기류가 충분히 응용되어 전체 기류와 진공을 제어하여 지속적인 제거 성능이 재료 두께의 영향을 받지 않도록 보장한다.

3. 고효율의 기류 제어, 일부 저압 기류도 응용할 수 있어 손실을 줄일 수 있다.

4. 비접촉식 세척 방식은 세척된 부품이 긁히거나 손상되지 않도록 한다.

5. 폐쇄 루프 시스템은 생산 작업장 (클린룸) 의 기류 균형을 파괴하지 않는다.

6. 고액의 소모품, 예를 들면 고순수한 물이나 화학 약제 등이 필요하지 않으며, 동시에 후속 건조가 필요하지 않아 생산 원가를 낮추고 생산 라인의 길이를 단축한다.