양면 평행광 노출기

평행광 양면 노출기

적용 범위

3D 이식 강판 망판 양면 노출

장치 성능 및 특징

1. 마이크로컴퓨터 제어, 60조 기억 기능

2.광량 보상기 (빛의 강도에 변화가 있을 때, 일정한 범위 내에서 자동으로 노출 시간을 연장하거나 단축할 수 있으며, 한 세트의 노출 농도가 일치하도록 보장할 수 있다), 미분 타이머와 초 타이머 선택

3. 자동 테스트 및 수동 테스트 기능으로 수리 용이

4. 스트로크 스위치 상태 감지 및 자동 순환 테스트 기능

5. 수입 고무천과 등관

6.무유 정음 무보정 진공 가스 펌프

7.방진 덮개가 있습니다.전면 천렴은 수동으로 위아래로 밀고 당기면 내려오고, 밀면 올라간다. 자체 배중이 있어 편리하고 빠르다. 전문 차광 천렴은 자외선을 효과적으로 막아 인체에 비치지 않는다

8.PS판 유효면적 내 광균일도 95% 이상

9.램프박스는 강화 유리를 장착하고 폭발 방지, 단열, 오존 차단, 뜨거운 바람이 2차 노출 필름을 불어 2차 노출 필름의 떨림을 방지하여 빛의 해상도를 낮춘다.

10.노출 안정 정밀도 ±0.01mm, 평행 광원 배합이 필요합니다.

11.두 번의 공기 흡입 장치는 구면 흡기 시스템과 결합하여 중간부터 균일하고 빠르게 진공을 흡입하여 공기가 남아 있지 않고 노출 과정에서 발생하는 산소와 질소를 잘 배출하도록 확보한다.

12. 강판을 견디는 플랫폼은 강판이다

사양 및 모델

특수한 광학 과학 기술로 사진 공업의 꿈을 실현하다.

전통적인 단점식 광원, 광선의 전파, 발광체를 중심으로 하는 복사는 필름의 복제에 오차가 생기기 쉽다.새로 개발된 평행직선광확산경은 방사광선이 확산경을 통과하도록 유도해 작업면에 수직인 직선광을 발생시키는 데 이 오차를 완전히 적용했다.

평행 라이트의 특징:

(1) 절대적인 세트 정밀도, 제판 라인 오차 ± 5U 내, 도형 사이즈 오차 ± 10U 내.

(2) (2) 균일한 광선 분포는 세밀한 선을 뒤집는 것이 가장 적합하며 선폭 오차가 발생하는 것을 감소시킨다.

(3) 진정한 1: 1 복제 작업은 복제 후 도형 사이즈의 오차가 큰 어려움이 없다.

(4) 적산광량계를 배치하여 안정적인 노출농도를 통제한다.

(5) 평행광원은 완벽하고 모서리가 없는 선과 튼튼한 점포의 복제를 완성한다.

평행 라이트에 대한 특수 작업

(1) 평행광원을 사용하여 수직으로 강한 광선이 감광면에 직통하고 완제품선이 모서리가 없고 점포가 튼튼하다.