高温热台 RT1500, RT1400, RT1200, RT1000 및 RT800

고온열대는 주로 많은 학과 (지질학, 전자학, 분체소포체, 야금학, 재료학, 도자기제조, 물리학, 화학, 치과, 열분석학) 분야에 공급되며 연구, 분석, 관찰에 종사한다.

핫스탠드 모델/온도 범위: RT1500/실온~1500℃, RT1400/실온~1400℃, RT1200/실온~1200℃

RT1000/실온~1000℃, RT800/실온~800℃

샘플실/관찰거리:7×3/6.5, 7×5/8.5, 8×2.5/6, 10×2.5/6, 8×4/7.5, 10×4/7.5(mm)

관찰광공:1.7mm

전열 재료: 백금

최대 온도 상승 속도: 100 ℃/min

온도 측정: 백금 로듐 - 백금

온도 표시 및 온도 조절 정밀도: 1 ℃

온도 제어: 조절기 정밀도 0.2 레벨, PID 인공 지능 제어, 50 단계 프로그램

온도 제어 소프트웨어: 중영문 인터페이스 전환, 실시간 조작, 다중 온도 교정, 온도 속도 설정 가능, 온도 제어 구간 등, 공정 곡선 표시 및 기록

실험 환경: 강체 밀폐, 분위기 소통 가능

냉각 방식: 순환 수냉

전체 구성: 고온 온대, 온도 제어기 및 온도 제어 소프트웨어, 순환 냉각 펌프, 제박기 및 예비 부속품 등